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陽明交大與鴻海攜手突破先進光達技術 創新成果獲國際肯定

國立陽明交通大學與鴻海研究院於2024年3月25日,共同舉行「產業創新學術研究論壇」,雙方代表於會後合影留念。此次論壇匯集了學術界與產業界的菁英,共同探討科技創新、人才培育等重要議題,為產學合作開創嶄新的里程碑。圖/陽明交大提供


國立陽明交通大學與鴻海研究院於2024年3月25日,共同舉行「產業創新學術研究論壇」,雙方代表於會後合影留念。此次論壇匯集了學術界與產業界的菁英,共同探討科技創新、人才培育等重要議題,為產學合作開創嶄新的里程碑。圖/陽明交大提供

國立陽明交通大學(NYCU)與全球最大的電子製造與服務商鴻海科技集團(TWSE:2317)旗下鴻海研究院半導體所(HHRI)再次展現卓越的產學合作成果。在國家科學及技術委員會(國科會)的補助與鴻海集團的支持下,雙方共同執行「前瞻技術產學合作計畫—整合氮化鎵高遷移率電晶體功率元件與新穎面射型雷射光源供先進光達系統應用」,並被國科會列為亮點計畫,彰顯其研究價值與潛力。

本計畫由國立陽明交通大學國際半導體學院張翼院長領銜,帶領陽明交大國際半導體學院林群雄教授、機械工程學系成維華教授、光電系盧廷昌教授與黃耀緯助理教授、照能所尤信介副教授研究團隊,並與鴻海研究院半導體所所長暨陽明交大講座教授郭浩中所長、半導體所洪瑜亨博士研究團隊展開深入合作。

在940奈米垂直腔面射型雷射陣列(VCSEL)方面,研究團隊實現了高達4.27瓦特的輸出功率;940奈米光子晶體面射型雷射(PCSEL)的單點功率達到3瓦特,陣列功率更高達10瓦特;1550奈米PCSEL的開發也取得重要進展。透過整合超穎介面與新穎面射型雷射,團隊打造出更為緊湊、低功耗的深度感測與臉部識別系統,並成功突破了空間計算的極限,發展出「新穎深度感測與臉部識別系統」。

在氮化鎵高遷移率電晶體功率元件(GaN HEMT)領域,研究團隊成功製作出高電流(20毫米至120毫米)的D-mode與E-mode場效應電晶體,為整合模組的開發奠定基礎。此外,團隊還設計並製作出緊湊的覆晶片結構(flip-chip)雷射光源模組,達成50兆赫的年度目標。

這項國科會亮點計畫的研究成果相當豐碩,總計發表了44篇論文(包括28篇期刊論文與16篇會議論文)以及9項專利。其中,一篇題為《Metasurface-and PCSEL-Based Structured Light for Monocular Depth Perception and Facial Recognition》的國際論文更刊載於「奈米通訊(Nano Letters)」期刊。該期刊的影響力指數常年維持在10以上,屬於全球頂尖期刊,此篇論文更獲選為2月份的封面與封面故事,凸顯了研究團隊的傑出表現。

相關研究成果亦受到美國化學學會(American Chemical Society, ACS)的關注,被列為二月份的焦點議題,並進行亮點新聞採訪。相關報導《A sleeker facial recognition technology tested on Michelangelo's David》已發佈於二月份的ACS PressPacs,進一步彰顯了這些研究成果的影響力與價值。

這次國立陽明交通大學研究團隊與鴻海研究院半導體所所長暨陽明交大講座教授郭浩中所長、半導體所洪瑜亨博士研究團隊的通力合作再次證明了產學攜手創新的重要性。透過雙方在各自領域的專長,研究團隊成功實現了更緊湊、低功耗的光達系統,這對於推動先進光達技術的發展具有重要意義。未來,陽明交大將持續深化與產業界的夥伴關係,共同開創科技創新的新局面。

陽明交大與鴻海研究院半導體所的合作讓學校有機會將學術研究與實際應用緊密結合。透過緊密的合作與知識交流,研究團隊突破了技術瓶頸,實現了更為先進、高效的深度感測與臉部識別系統。這不僅為學術界帶來重要貢獻,也為產業應用開啟了新的可能性。

陽明交大一直以來致力於推動尖端科技研究,並積極尋求產學合作的機會。此次與鴻海研究院的合作再次彰顯了陽明交大在前瞻技術領域的實力,以及對培育創新人才、促進產學交流的重視。未來,陽明交大將繼續深化與產業界的夥伴關係,攜手開創科技創新的新局面,為臺灣乃至全球的科技發展貢獻心力。這項合作不僅展現了陽明交大在尖端科技領域的實力,也體現了學校對產學合作的重視。陽明交大將持續強化與產業界的聯繫,為培養創新人才、促進技術發展貢獻心力,共創美好的未來。

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